以保护为目的高质量专利撰写思路研究（6）--必须确认最重要发明点的必要技术特征，构造独权

一、前序

一篇高质量的专利，就如同一架天平，左端是授权，右端是保护范围，在授权的基础上还能够获得合适的保护范围才能保证天平的平衡。只有保护范围合适，才能真正保护到技术方案，否则，专利即使获得授权，可能无法真正保护到技术。实务中，无论是专利申请人还是专利代理人，往往更看重天平左端的授权，而忽视了天平右端的保护范围。

在之前的文章中（以保护为目的高质量专利撰写思路研究（1）--必须掌握侵权判定原则及规避设计方法）、（以保护为目的高质量专利撰写思路研究（2）--必须理解必要技术特征和非必要技术特征），笔者从宏观理论角度分析了以保护为目的的高质量专利撰写应具备的基本能力：必须掌握侵权判定、规避设计、确认必要技术特征和非必要技术特征的技能。

掌握了以上技能后，在实际实务撰写中，我们应如何撰写一篇以保护为目的的高质量专利呢？显然，高质量专利的撰写过程，特别是权利要求的形成过程，不是随意的，是非常具有逻辑性的，需要遵循一定的思路，笔者认为这一思路应至少包括以下几个重要部分：

获取完整技术交底——检索对比现有技术，确认真正发明点——确认最重要的那个发明点——确认最重要发明点的必要技术特征，构造独权——确认其他发明点，构造从权——对技术特征扩展上位。

我们在（以保护为目的高质量专利撰写思路研究（3）--需具备获取完整技术交底的能力）、（以保护为目的高质量专利撰写思路研究（4）--必须学会检索对比现有技术，确认真正发明点）、和（以保护为目的高质量专利撰写思路研究（5）--必须确认最重要的那个发明点）中分析了“获取完整技术交底”、“检索对比现有技术，确认真正发明点”和“确认最重要的那个发明点”的内容，本文接下来将对“确认最重要发明点的必要技术特征，构造独权”这部分内容进行详细分析。

二、确认最重要发明点的必要技术特征，构造独权

（1）权利要求=区别技术特征+必要技术特征

权利要求，某方面可看作是由区别技术特征和必要技术特征组成的（当然区别技术特征也属于必要技术特征）。当发明点和要解决的技术问题确认好后，只意味着确定好了权利要求的区别技术特征，而权利要求要形成完整的技术方案，还需要确定除区别技术特征以外的其它必要技术特征。其中，区别技术特征负责体现权利要求新颖性创造性，其它必要技术特征负责构成完整的技术方案。

（2）权利要求要符合最少特征原则

独权其它必要技术特征的确定，需要遵从“最少特征原则”，即为解决独权的技术问题，构成独权的完整技术方案所包含的技术特征最少(或者说，用最少的技术特征构成最小的技术单元，这个最小的技术单元足以解决独权的技术问题)。如果独权所包含的一个技术特征被去除后，不影响独权技术问题的解决，则该技术特征为非必要技术特征。即使该技术特征能够解决其它技术问题，但只要跟独权技术问题的解决无关，就属于该独权的非必要技术特征，就不应该写入独权中。

当然，该非必要技术特征对于其它权利要求来说，可能是必要技术特征，从而被写进其它权利要求，这由其它权利要求要解决的技术问题决定。

按照以上思路，我们首先以最重要的发明点和主要要解决的技术问题为基础，确认好独权的区别技术特征和要解决的技术问题，然后遵从“最少特征原则”确认好其它必要就特征，从而构造得到独权。

按照“最少特征原则”得到的独权，保护范围是最大的，也是难以被竞争对手规避设计的。

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