以保护为目的高质量专利撰写思路研究（5）--必须确认最重要的那个发明点

一、前序

一篇高质量的专利，就如同一架天平，左端是授权，右端是保护范围，在授权的基础上还能够获得合适的保护范围才能保证天平的平衡。只有保护范围合适，才能真正保护到技术方案，否则，专利即使获得授权，可能无法真正保护到技术。实务中，无论是专利申请人还是专利代理人，往往更看重天平左端的授权，而忽视了天平右端的保护范围。

在之前的文章中（以保护为目的高质量专利撰写思路研究（1）--必须掌握侵权判定原则及规避设计方法）、（以保护为目的高质量专利撰写思路研究（2）--必须理解必要技术特征和非必要技术特征），笔者从宏观理论角度分析了以保护为目的的高质量专利撰写应具备的基本能力：必须掌握侵权判定、规避设计、确认必要技术特征和非必要技术特征的技能。

掌握了以上技能后，在实际实务撰写中，我们应如何撰写一篇以保护为目的的高质量专利呢？显然，高质量专利的撰写过程，特别是权利要求的形成过程，不是随意的，是非常具有逻辑性的，需要遵循一定的思路，笔者认为这一思路应至少包括以下几个重要部分：

获取完整技术交底——检索对比现有技术，确认真正发明点——确认最重要的那个发明点——确认最重要发明点的必要技术特征，构造独权——确认其他发明点，构造从权——对技术特征扩展上位。

我们在（以保护为目的高质量专利撰写思路研究（3）--需具备获取完整技术交底的能力）、和（以保护为目的高质量专利撰写思路研究（4）--必须学会检索对比现有技术，确认真正发明点）中分析了“获取完整技术交底”和“检索对比现有技术，确认真正发明点”的内容，本文接下来将对“确认最重要的那个发明点”这部分内容进行详细分析。

二、确认最重要的那个发明点

专利技术方案通常是复杂的，往往存在多个发明点，因此我们通过检索对比现有技术，通常会得到多个发明点。而各发明点的重要程度对专利权人来说并不相同，因此还需要我们对发明点的重要程度进行排序，并以此为参考，确认出最重要的发明点及其主要解决的技术问题，继而为独权和从权布局提供依据。

（1）为什么要确认最重要的那个发明点

有些代理人可能会不解，对各发明点一视同仁不也一样可以撰写专利吗？并且撰写的专利也可以获得授权，为什么还要再花费精力去做确认最重要发明点及其主要要解决的技术问题的工作呢？