虚心求教！独立权利要求 必要技术特征

这是我自己编撰的申请，所以不涉及泄密问题!，只是想了解一些独权的撰写问题以及必要技术特征的问题 现有技术中存在的技术问题为：真空腔室中对基片进行工艺，工艺会造成基片温度过高，因此，需要工作一段时间之后再通入冷却气体进行冷却，这样工艺和冷却交替进行，直至工艺完成，这会造成工艺时间很长 本发明的方案：在工艺过程中就进行降温，采用的方式为：1，向基片的背面吹气体，用压环压着方式把基片吹飞，为防止对工艺产生影响，所以冷却气体为工艺气体， 且由于工艺环境为真空环境，因此需要抽气，现有技术中工艺过程也得抽气来保证真空度。 2，在1的基础上设置密封件，密封基片背面和承载装置，这样冷却气体就可以采用任何气体了。 在上面的基础上，独权应该怎样写？ 自己觉得必要技术特征就是：向基片背面吹冷却气体，和压环。