加载中...
推荐位 推荐位

产品专利侵权判定问题

发布时间:2018.05.02 浙江省查看:1687 评论:6

求大牛指导: 专利1:某公司已授权的产品专利:包括独权2个: 独权1:一种晶体A,其特征在于,其晶体通常为锥形,水分含量为5—10%; 独权2:一种制备晶体A的方法,其特征在于,A用甲醇处理,水结晶,…… 专利2:已授权 独权1:一种晶体A,其特征在于,晶体粒度具有小于42度的休止角。 独权2:一种制备晶体A的方法,其特征在于,粗料A用水溶解处理,过滤后滤液用乙酸乙酯结晶,…… 目前我司产品A是锥形的,水分含量为6%,但制备方法与专利1不一样;对比专利2,制备方法一致,但是晶体的休止角不一样;这种情况下我们的产品是否会侵犯以上两个专利的专利权?为什么呢?


分享

收藏

点赞

举报

评论列表

  • 第1楼
    本帖最后由 fl1989 于 2018-5-2 15:03 编辑

    侵犯专利1中独权1

    侵权不需要全部侵权,侵犯部分权利也是侵权
    按照你说的,在专利2中,独权2的方法得到居然不是独权1的产品,那专利2就是有问题的,不符合单一性,或者出现错误了

    2018/05/02 13:44 [来自安徽省]

    0 举报
  • 第2楼
    fl1989 发表于 2018-5-2 13:44
    侵犯专利1中独权1
    侵犯专利2中独权2
    侵权不需要全部侵权,侵犯部分权利也是侵权 ...

    我认为,没有侵犯专利2中的独权2。因为独权2限定的是独权1中晶体A的制备方法,而独权1中晶体A晶体粒度具有小于42度的休止角。楼主描述的晶体的休止角不一样。

    2018/05/02 13:55 [来自山东省]

    0 举报
  • 第3楼
    sundayhot 发表于 2018-5-2 13:55
    我认为,没有侵犯专利2中的独权2。因为独权2限定的是独权1中晶体A的制备方法,而独权1中晶体A晶体粒度具 ...

    @fl1989

    2018/05/02 13:56 [来自山东省]

    0 举报
  • 第4楼
    sundayhot 发表于 2018-5-2 13:55
    我认为,没有侵犯专利2中的独权2。因为独权2限定的是独权1中晶体A的制备方法,而独权1中晶体A晶体粒度具 ...

    你说的有道理 ,我理解错了,谢谢

    2018/05/02 14:57 [来自安徽省]

    0 举报
  • 第5楼
    侵犯专利的独权1,不侵犯专利2,之所以不侵犯专利2的独权2,是因为,并不是所有“用水溶解处理,过滤后滤液用乙酸乙酯结晶,……”都属于专利2的保护范围,专利2的独权只保护晶体A的制备方法,如果晶体A不同,那就不落入保护范围

    2018/05/03 11:21 [来自广东省]

    0 举报
  • 第6楼
    提示: 作者被禁止或删除 内容自动屏蔽

    2018/05/24 12:46 [来自浙江省]

    0 举报

快速回复