浅读检索--马天旗著《专利有效性检索》案例4“熔合金属纳米线结构网络制备方法”

发布时间：2021.11.26 福建省查看：681 评论：2

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本文浅读的对象，为《专利有效性检索》书中的第四章案例4，作者为马天旗（原国家知识产权局专利局副处长）、赵星、欧阳石文。以下浅读、分析等均仅代表本人观点，不代表作者马天旗、赵星、欧阳石文观点。如有其他理解欢迎交流。

原创前的话：这篇是某位不愿透露姓名的华进联合专利分析师写的，在此表示感谢。

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一、案例所涉专利技术背景

案例4中所涉专利是专利号为ZL201480018734.0的发明专利“熔合金属纳米线结构网络制备方法”（已被部分无效），所谓纳米线是一种纳米尺度的线状物，银纳米线是纳米线中得到应用认可的一种。

从市场角度看，纳米线之所以广受关注，主要原因在于其优异的透光性、导电性和耐曲挠性，在可挠折叠手机、平板电脑、笔记本、可穿戴器件等方面的应用前景较好。

从技术角度看，纳米线具有优异的导电性、透光率和柔韧性，同时相对于氧化铟锡（ITO）、碳纳米管和石墨烯拥有更低的成本，是的有力替代者。

二、技术理解

ZL201480018734.0涉及一种熔合金属纳米结构网络和用于形成导电熔合金属纳米结构网络的溶液，溶液中包含还原剂。

专利的背景技术部分指出了现有技术中所用透明导电膜，例如典型的氧化铟锡（ITO）材料本身和制备过程的缺点，即工艺复杂、周期长、成本高。

笔者在此一并说明，因氧化铟锡是一种金属氧化物，天然的具有脆性大、机械和加工性能不佳的劣势，机械加工性能或者说柔性虽也可作为检索要素，但本专利重点在于“熔合金属纳米结构网络和用于形成导电熔合金属纳米结构网络的溶液”，因而作为检索要素优先级需靠后，在本书中亦未提及。

权利要求1中给出了技术方案的核心技术特征“金属纳米结构网络制备工艺”，主要技术特征包含：①还原剂与金属离子反应，②金属纳米线与金属元素熔合成网络，③达到80%的透射率。

图1[1]

本书作者经整理和分析，梳理出如上图的发明构思三要素：技术问题、技术方案和技术效果。

"现有技术中透明导电膜的制备工艺复杂、周期长、成本高的技术问题是通过使金属纳米线与包含还原剂来源和金属离子来源的熔合溶液接触以将金属离子还原成其相应金属元素，从而将所述金属纳米线熔合在一起以形成所述熔合金属纳米结构网络[1]"的技术方案来解决的，以达到形成导电且透射性好的熔合金属纳米结构网络的技术效果。

三、检索要素的确定

图2[1]

本书作者将权利要求书中的主要技术特征分解为如上图所示的级别：

Ø 一级核心技术特征——金属纳米结构网络，确定技术领域和分类号；

Ø 二级核心技术特征——还原剂与金属离子反应，金属纳米线与金属元素熔合成网络；

Ø 主要技术特征（性能特征）——达到80%的透射率；

四、检索要素的表达

本书作者将前述确定的检索要素列在如下表中，从分类号表达和关键词表达两个方面搜集检索要素。

第一部分，是确定分类号：

表1 本书作者检索要读表达及原始IPC分类号（本书原表4-11）

本专利扉页给出的分类号两个C09D11/52、B82Y30/00，本书作者经分析判断后者可作为非主要的从属分类位置之一。

下面两段为笔者在本书作者的阐述的基础上尝试细化解读：

C09D11/52含义为“导电墨水[2014.01]，C09D含义为涂料组合物，例如色漆、清漆或天然漆；填充浆料；化学涂料或油墨的去除剂；油墨；改正液；木材着色剂；用于着色或印刷的浆料或固体；原料为此的应用”。在官方文件的附注中，大都以高分子化合物为小类的划分标准，而经过通读本专利除衬底可为聚合物外，认为独立权利要求37的主题“用于形成导电熔合金属纳米结构网络的溶液”中不含高分子组分，或可作为补充IPC分类号，但与该专利文本记载的技术路线距离较远。

B82Y30/00含义为“用于材料和表面科学的纳米技术，例如：纳米复合材料[2011.01]”，向上追溯B82Y“纳米结构的特定用途或应用；纳米结构的测量或分析；纳米结构的制造或处理”，在2011.01的附注中指出该小类包括由任何方法生成的纳米结构的应用及方面，而不仅仅限于那些由操纵单个原子或分子而形成的纳米结构；B82“超微技术”，在2006.01的附注中指出 ①“纳米尺寸”或 “纳米尺度”涉及在一个或多个维度上小于100毫微米（nm）的被控几何尺寸，② “纳米结构”是指拥有至少一个纳米尺寸的功能性元件的实体，该元件完全因为其纳米尺度而具有物理、化学或生物特性或效应。

结合对该专利文本的阅读，记载的熔合金属纳米结构网络是一种将包含金属银离子在内的一种或多种金属离子的组合还原，以达到将金属纳米先熔合在以其形成熔合金属纳米结构网络，可认为B82Y30/00“用于材料和表面科学的纳米技术，例如：纳米复合材料[2011.01]”是该专利文本中独立权利要求1和42的熔合金属纳米结构网络的上位概念的相关IPC分类号，但有一定距离。

本书作者接着通过“三步法”重新确定了更适合的分类号，采用本书第三章讲述的制造或处理产品的方法最佳分类位置的IPC分类流程：

“第一步，判断是否有对应制造所述金属纳米线结构网络制备方法的位置”[1]；

“第二步，是否存在执行'金属纳米线结构网络制备方法'的设备位置”[1]；

“第三步，是否存在制造或处理产品的位置”[1]。

本书作者通过三个步骤，分别确定了适合的分类位置：

（1）H01B13/00制备刀体或电缆制造的专用设备或方法；

（2）H01B13/00制备导体或电缆制造的专用设备或方法；

（3）H01B5/14在绝缘支撑物上有导电层或导电薄膜、H01B1/02主要有金属或合金组成；

其中（1）和（2）相同，可作为金属纳米线结构网络制备方法和设备的上位概念，（3）中的两个分类位置被认为属于金属纳米线结构网络所对应直接产品或产品的上位概念。

因此，本书作者将前述四个分类位置作为更新的检索要素，并给出如下顺序：

H01B5/14（直接产品上位概念）＞ H01B13/00、H01B1/02、B82Y30/00

笔者在读到此处之前，亦通过常用方法查找到多个备选分类位置，如：

H01B1/02 主要由金属或合金组成的[2006.01]；

H01B1/16 包含金属或合金的导电材料〔3〕[2006.01]；

H01B5/14 在绝缘支承物上有导电层或导电薄膜的[2006.01]；

B01J37/16 还原〔2〕[2006.01]；

H05K3/10 其中将导电材料按照形成所要求的导电图案的方式敷至绝缘支承物上的[2006.01]；

H05K3/12应用印刷技术涂加导电材料的[2006.01]；

H05K3/18应用沉淀技术涂加导电材料的[2006.01]；

H01B1/02主要有金属或合金组成；

H01B1/16包含金属或合金的导电材料[2006.01]；

C09D5/24 导电涂料[2006.01]；

C08J7/044 形成导电涂层、形成具有抗静电性能的涂层[2020.01]。

其中包含本书作者选中的分类位置，也有错误示范和备选选项，在实际工作中，如难以快速检索到X类文件或者为了饱和检索，也可考虑用备选检索要素尝试检索Y文件。本专利已经历无效宣告，最终结果部分无效，在无效宣告请求审查决定书中请求人提供了15份证据，本书中示例检出的专利文本中有一件与当时请求人提供的证据之一重叠。其他证据的检出或许与前述分类位置有关，有机会详述。

第二部分，确定关键词：

本专利文本的专利权人为美国C3奈米有限公司，本专利通过PCT进入中国，且要求了一件美国专利作为优先权。

在关键词的确认过程中，本书作者考虑到国外申请人提交中文专利文本的翻译等因素造成直译表达与本地语言惯常表达的偏差，结合本领域的专利文献，将相关术语进行了扩充。此外，考虑到工艺步骤的撰写习惯，即氧化剂和还原剂可理解为使其他物质氧化（还原）的物质，本身发生还原（氧化）反应，从“还原”扩展了“氧化”。