关于抵触申请的问题
发布时间：2017.08.15 重庆市查看：1915 评论：7
本帖最后由 zybFragrance 于 2017-8-15 22:06 编辑
假如两个申请A和B，A申请在B之前，公开在B申请之后，A和B的区别在于，A公开的是上位概念金属，B公开的是下位概念铜或银，那A是否能算构成B的抵触申请？另外，如果A和B是两个申请人同日申请的，这算是什么情况？
假如两个申请A和B，A申请在B之前，公开在B申请之后，A和B的区别在于，A公开的是上位概念金属，B公开的是下位概念铜或银，那A是否能算构成B的抵触申请？另外，如果A和B是两个申请人同日申请的，这算是什么情况？
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[7]思博铁粉
[未知属地]
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李工仲明
不能。
另外，如果A和B是两个申请人同日申请的，这算是什么情况？
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没事儿。
2017/08/15 22:13 [来自天津市]
1 举报zybFragrance
第二种情况，保护范围有重叠，可不可以认为是存在相同的技术方案，违反法9条？
2017/08/15 23:19 [来自重庆市]
0 举报李工仲明
ni可以看专利审查指南第二部分第三章，倒数第3至倒数第二页的内容。
2017/08/16 08:58 [来自北京市]
0 举报zybFragrance
自行协商
回到上面第一种情况，如果A不构成B的抵触申请，如果都授权了，A和B也是相同的技术方案的，这个是咋弄呢？
2017/08/16 09:20 [来自重庆市]
0 举报waterhao
2017/08/21 10:33 [来自广东省]
0 举报BillJ
A和B不是相同的技术方案。
一个上位，一个下位，专利里认为不相同。
2017/08/22 07:24 [来自上海市]
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